主要技術規格及要求:
1. 動態光散射測量參數: 流體力學直徑(Dh)及其分布,擴散系數(D),其他動力學參數;
2. 靜態光散射測量參數: 絕對重均分子量(Mw),均方根回旋半徑(Rg),第二維利系數(A2);
3. 動靜態光散射聯用可完成以下測定:
- 通過Rg/Rh得到高分子聚合物的形態
- 動靜態結合可以得到膠束聚集度、膠束重量、膠束密度及其結構
- 分形維數的值可用來表征樣品的松散程度
- 可對體系生長/聚集進行表征
4. Dh 測量范圍:>1nm - <6um;
5. Mw 測量范圍:>500 - 109 Daltons;
6. Rg 測量范圍:10nm – 1μm;
7. 濃度范圍:0.1 mg/mL - 10mg/mL;
8. *測量角度范圍:8-162°之間任意角度(手動或計算機控制);精度:0.01°;
9. 溫控范圍:-20 - 80°C,精度±0.1°C,數字溫度控制器,具有雙重熱交換溫度控制部件;
10. *激光器: 根據用戶需要配置激光器(633nm/532nm/488nm或其它選擇),可升級兩只不同波長激光器組成雙光路,括激光器支架;
11. *開放式結構設計,可升級雙激光器雙光路配置,不同光源任意切換使用,滿足不同樣品(特別是不同顏色樣品)的實際測量需求。
12. APD(雪崩型光電二極管)檢測器,帶有微處理器電子保護裝置
13. 數字相關器:
- 物理通道:超過1011線性通道
- 采樣時間:可變采樣時間:25ns至40ms
- 延遲時間:可變延遲時間:25ns至13l0s
- 可選擇基線設置:1.測量基線;2.計算基線;3.最后通道基線;4. 斜率分析基線
- 多路輸入多路:支持4路同時輸入
- 互相關:支持2路互相關
14. *濾光片輪:532nm,488nm,514nm,633nm等多種,適用于多種不同波長的激光源,另有開放位置為弱散射體系所備用;
15. *孔徑片大?。?00μm/200μm/400μm/1mm/2mm/3mm,適應不同的測量應用要求,避免采用單一孔徑片帶來的測量誤差;
16. 光強調節方式:可變中密度濾光器與孔徑片大小組合調整方式;
17. *在線匹配液循環過濾系統:雙重濾膜過濾匹配液,保證匹配液澄清無灰塵;
18. 旋轉臺誤操作保護:設有限位器防止誤操作損壞檢測器
19. 軟件:系統準直軟件、動態光散射與靜態光散射的全套分析軟件